鍍膜過程監控

在鍍膜過程中需要對一些重要參數進行監控，如膜層厚度、成分、表面光潔度、光透射率、反射系數、偏振特性等，都可以利用光譜學和雙光束干涉的方法進行測量。光纖的使用為監控過程提供了靈活的工具，可以使光方便地進入或導出遠方的真空超凈室，而且可以同時為膜層分析提供多個幾何量的測量選擇。膜層的照明和發光的探測可以在相對于膜層的不同光纖位置進行，可以測量鏡面反射、漫反射、傳輸、偏振、干涉、熒光和拉曼散射等。可以利用多根光纖同時監測多個參數，或者在不同的空間位置或掩模條件下同時測量。

用幾個適宜結構的光纖探頭，就可以在線監測生產的全過程。在一些場合中，可以通過監測離子源（如等離子源）的光譜輻射來確定鍍膜過程中的條件效率。

對于大多數此類監測系統來說都需要專門的實驗布局，我們可以為您提供適合您應用的實驗布局，這里僅舉一個應用系統的例子。在這里使用一個反射型光纖探頭來在線監測鍍膜生產過程。光纖通過過真空裝置進入真空室，然后傳到反射探頭上。反射光經過另一個過真空裝置，進入光譜儀的一個測量通道。反射型探頭可以用SMA接頭拆下。還可以再增加一個光譜儀通道，用來進行參考測量或補償光源本身的波動對測量結果的影響。